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NOTIZIA

  • 11-04
    2021
    [notizia] A cosa serve il Gallio Arsenide?
    I materiali del semiconduttore di Gallium Arsenide (GAAS) hanno un'elevata mobilità elettronica (circa 5,7 volte quella del silicio) e struttura di gap larga banda rispetto ai tradizionali materiali in silicone. Per Saperne Di Più »
  • 11-03
    2021
    [notizia] L'obiettivo di sputtering del metallo
    Il materiale target di sputtering in metallo ad alta purezza è utilizzato principalmente nella produzione di fabbricazione del wafer e nel processo di imballaggio avanzato. Per Saperne Di Più »
  • 11-02
    2021
    [notizia] Cos'è la sputtering magnetico?
    Nella presa della lampada fluorescente vicino al comune fenomeno di annerimento, che è l'esempio più ammirato, ciò a causa dell'elettrodo lampada fluorescente viene spuderato e attaccato alla formazione circostante. Per Saperne Di Più »
  • 11-01
    2021
    [notizia] Cos'è il nickel vanadio?
    Nickel Plus 7wt% Vanadio (NIV7) è una delle più importanti in lega di sputtering film sottile nel campo dei semiconduttori. Presenta le desiderabili proprietà chimiche, elettriche e ottiche del Pure NI, con il vantaggio aggiunto non ferromagnetico. Per Saperne Di Più »
  • 10-29
    2021
    [notizia] Cos'è la fibra di vetro chalcogenide?
    Gli occhiali Chalcogenide sono realizzati con la miscela degli elementi Chalcogen: zolfo (i), selenio (SE) e tellurio (TE). L'aggiunta di altri elementi, come l'Arsenico, il germanio e l'antimonio stabilire reticolare tra le catene di Chalcogens per facilitare la formazione di vetro stabile. Per Saperne Di Più »
  • 10-28
    2021
    [notizia] Applicazione Arsenide Cadmio.
    Cadmum Arsenide è un composto chimico di cadmio e arsenico. È un semiconduttore e viene utilizzato in rilevatori a infrarossi, sensori di pressione, magnetoresistor e fotodetettori. Per Saperne Di Più »
  • 10-27
    2021
    [notizia] INTRODUZIONE DI SELENIDE DI ZINC
    Selenide di zinco ossida significativamente a 300 ° C, mostra deformazione in plastica a circa 500 ° C e dissocia circa 700 ° C. Per sicurezza, le finestre di selenide di zinco non devono essere utilizzate superiori a 250 ° C in atmosfera normale. Per Saperne Di Più »
  • 10-26
    2021
    [notizia] Coating a sputtering magnetron.
    La sputtering del magnetron, come metodo molto efficace per la deposizione di film sottile, è stata applicata ampiamente e applicata con successo in molti campi, in particolare nei settori della microelettronica, del film sottile ottico e del trattamento superficiale del materiale, per la deposizione di pellicola sottile e la preparazione del rivestimento della superficie. Per Saperne Di Più »
  • 10-25
    2021
    [notizia] Diversi rivestimenti comuni del rivestimento del film
    Negli ultimi anni, i film funzionali di substrati polimerici sono stati sempre più ampiamente utilizzati in vari campi, in particolare per i film con funzioni ottiche. I film polimerici (come PET, PC, PMMA, PVC, TAC, ecc.) Hanno eccellenti proprietà ottiche e fisiche e meccaniche. Per Saperne Di Più »
  • 10-22
    2021
    [notizia] Cos'è il Gallio Arsenide?
    Gallio Arsenide (GAAS) è un composto costruito dagli elementi Gallio e Arsenico. È spesso indicato come un composto III-V perché il Gallio e l'Arsenico sono nel gruppo III e del gruppo V del tavolo periodico, rispettivamente. Per Saperne Di Più »
  • 10-21
    2021
    [notizia] Molybdenum Disenide Introduzione
    Molybdenum Disenide (MOSE2) è un composto inorganico di molibdeno e selenio. La sua struttura è simile a quella di MOS2. I composti di questa categoria sono noti come dichalcogenidi in metallo di transizione, TMDC abbreviati. Per Saperne Di Più »
  • 10-20
    2021
    [notizia] Applicazione in rame in Indio Gallio Selenide
    Rame Indio Gallium SelenideCopper Indio Gallio (DI) Selenide (CIGS) è un materiale semiconduttore I-III-VI2 composto da rame, indio, gallio e selenio. Il materiale è una soluzione solida di selenide in inlio di rame (spesso abbreviato \"cis \") e rame gallio selenide. Per Saperne Di Più »
  • 10-19
    2021
    [notizia] ITO Target di sputtering.
    Ito Ito Target e i suoi derivati, come il film ITO e il vetro ITO, sono ampiamente utilizzati in tutti i ceti sociali. I bersagli sono comunemente usati per realizzare rivestimenti conduttivi trasparenti per display a cristalli liquidi (LCD), display a schermo piatto, visualizzazioni del plasma e tatto pannelli. Per Saperne Di Più »
  • 10-18
    2021
    [notizia] Applicazione del plasma in tecnologia di rivestimento superficiale
    Sputtering è l'uso di un obiettivo di sputtering solido dell'impatto ionico ad alta velocità, in modo che le molecole di superficie spruzzano e proiettate sul substrato per formare un film. L'energia cinetica iniziale dello ione di sputtering è di circa 100 EV.A comune gas del plasma è l'argon. Per Saperne Di Più »
  • 10-15
    2021
    [notizia] Introduzione degli obiettivi di sputtering
    Sputtering è un meccanismo di deposizione del vapore fisico (PVD) in cui gli atomi vengono espulsi dalla superficie di un materiale quando quella superficie è bloccata da particelle di energia sufficientemente elevata. Per Saperne Di Più »

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