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ITO Target di sputtering.

numero Sfoglia:1     Autore:Editor del sito     Pubblica Time: 2021-10-19      Origine:motorizzato

Metodo di preparazione diITO Target di sputtering.Materiale

Pressatura a caldo

L'obiettivo in ceramica ITO ad alta densità con una densità del 91% ~ 96% può essere prodotto utilizzando energia termica e meccanica per densificare la polvere ITO mediante pressatura a caldo per vuoto. Questo metodo può facilmente ottenere il bersaglio ITO con densità vicino alla prevista e alla porosità vicina a zero.However, a causa della limitazione delle attrezzature e delle dimensioni dello stampo, la pressatura a caldo sottovuoto ha meno vantaggi nella preparazione del bersaglio di sputtering di grandi dimensioni.

Pressatura isostatica calda.

La pressatura isostatica calda (HIP) viene utilizzata per preparare i seguenti obiettivi di sputtering con la sinterizzazione sotto pressione o pressurizzazione ad alta temperatura. Selezionabile per la pressatura a caldo sottovuoto, l'anca può essere riscaldata e pressurizzata per ottenere elevata densità (densità teorica) e eccellenti proprietà fisiche e meccaniche . Ma è anche limitato dalla pressione delle attrezzature e dalla dimensione del cilindro.

Sintering della temperatura ambiente

La sinterizzazione della temperatura ambiente è quella di preparare il bersaglio ad alta densità prefabbricati dallo slurry che versati o di pre-pressatura, e quindi sinterizzazione del bersaglio ITO a una determinata atmosfera e temperatura. I più grandi vantaggi è che può produrre materiale bersaglio a sputtering di grandi dimensioni. Tuttavia, rispetto ad altre sinterizzazione Metodi, la purezza del bersaglio preparata da questo metodo è inferiore.

Pressatura isostatica fredda

La pressatura isostatica fredda (CIP) prende gomma o plastica come materiale di copertura e liquido come mezzo di pressione per trasferire la super alta pressione a temperatura ambiente .CIP può anche preparare il bersaglio a sputtering ITO con dimensioni maggiori. E buon mercato, adatto per la produzione di massa. Il materiale da sinterizzato a 1500 ~ 1600 ° C nell'ambiente puro di ossigeno di 0,1 ~ 0,9 MPa, che ha un rischio elevato.

Applicazione del materiale di bersaglio ITO sputtering

Ito Ito Target e i suoi derivati, come il film ITO e il vetro ITO, sono ampiamente utilizzati in tutti i ceti sociali. I bersagli sono comunemente usati per realizzare rivestimenti conduttivi trasparenti per display a cristalli liquidi (LCD), display a schermo piatto, visualizzazioni del plasma e tatto pannelli. I film ITO sono utilizzati per diodi emettitori di luce organici, celle solari e rivestimenti antistatici. Inoltre, l'industria elettronica, gli obiettivi ITO vengono utilizzati anche in vari rivestimenti ottici, rivestimenti riflettenti in particolare a infrarossi e vetro della lampada a vapore sodio per automobili.

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