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numero Sfoglia:1 Autore:Editor del sito Pubblica Time: 2021-10-18 Origine:motorizzato
Deposizione di sputtering.
Sputtering è l'uso di un impatto dei ioni ad alta velocità solidoTarget di sputtering., in modo che le molecole di superficie spruzzano e proiettate sul substrato per formare un film. L'energia cinetica iniziale dello ione sputtering è di circa 100 EV.A Gas al plasma comune è Argon.
Deposizione plasma-assistita
Deposizione chimica della fase gas La reazione chimica viene effettuata su un substrato ad alta temperatura per ottenere una risposta di energia del precursore del gas sufficiente.
Polimerizzazione al plasma
La tecnica più semplice per il rivestimento di un polimero o un film di plastica è quello di applicarlo a un solvente e quindi a un substrato. Il metodo di rivestimento di polimerizzazione del plasma è quello di eccitare il monomero molecolare nel plasma, attraverso la reazione chimica, per formare un polimero uniforme, rivestito sul substrato .Due all'impatto del plasma sul substrato, anche l'adesione è molto forte.
Incisione al plasma
L'incisione alcalino umida è il metodo più semplice ed economico, lo svantaggio è che l'incisione alcali ha l'orientamento del piano di cristallo, causerà il problema di taglio inferiore.
Spruzzatura al plasma
Parti metalliche Lavorare a temperature elevate deve essere coperta con ceramica per prevenire la corrosione ad alta temperatura.
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