Obiettivo di sputtering ceramico di ossido
- Ossido di titanio bismuto (Bi4Ti3O12)-bersaglio sputtering
- Ossido di zinco drogato con allumina (ZnO-Al2O3) - Bersaglio per spruzzatura rotante a spruzzo
- Pentossido di tantalio (Ta2O5)-bersaglio sputtering
- Ossido di tellurio (TeO2)-bersaglio sputtering
- Ossido di antimonio (Sb2O3)-bersaglio sputtering
- Ossido di indio zinco stagno (In2O3:ZnO:SnO2 （90:7:3 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di zinco indio (In2O3:ZnO （90:10 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di stagno di gallio (GTO) (Ga2O3-SnO2)-bersaglio sputtering
- Ossido di Zinco (dopato con P) (ZnO (dopato con P2O5) )-Sputtering Target
- Ossido di Zinco drogato con Ossido di Magnesio (ZnO-MgO (90/10 At% ))-Sputtering Target