Obiettivo di sputtering ceramico di ossido
- Solfuro di molibdeno-ossido di antimonio (MoS2-Sb2O3 (60:40 wt%))-Sputtering Target
- Ossido di zinco (drogato con Ga) (ZnO-3wt% Ga2O3)-bersaglio sputtering
- Ossido di molibdeno (MoO3)-bersaglio sputtering
- Ossido di magnesio (MgO)-bersaglio sputtering
- Ossido di stagno Indium (IN2O3-SNO2) -Rotary Sputtering bersaglio
- YTTRIUM OXIDE (Y2O3) TargetSputtering Target
- GADOLINIO OSSIDE (GD2O3) -SPUTTERING TARGET
- Ossido di cerio (CEO2) Target -Sputtering