Obiettivo di sputtering ceramico di ossido
- Indio Stagno Ossido (In2O3-SnO2 （90:10 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di indio-gallio-zinco (In2O3-Ga2O3-ZnO （1:1:1 Mol%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di indio-ossido di gallio (In2O3-Ga2O3)-bersaglio sputtering
- Ossido di indio-ossido di titanio (In2O3-TiO2 （91:9 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di cadmio (CdO)-bersaglio sputtering
- Pentossido di niobio (Nb2O5)-bersaglio sputtering
- Ossido di germanio (GeO2)-bersaglio sputtering
- Ossido di gallio (Ga2O3)-bersaglio sputtering
- Ossido di zinco (ZnO)-bersaglio sputtering
- Ossido di rame (II) (CuO)-bersaglio sputtering