Gli obiettivi di sputtering sono utilizzati principalmente nel settore delle informazioni elettroniche, come circuiti integrati, archiviazione delle informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc. Può anche essere utilizzato in rivestimento in vetro, materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura Prodotti decorativi di alta qualità e altre industrie. L'incollaggio si riferisce al legame un bersaglio a un obiettivo posteriore con saldatura. Per Saperne Di Più »

La purezza dell'obiettivo ceramico ha una grande influenza sulle prestazioni del film di sputtering. Più alto è la purezza, migliore è l'uniformità del film di sputtering e la qualità dei prodotti batch. Inoltre, al fine di preparare l'obiettivo ceramico ad alte prestazioni, dovremmo controllare questi fattori, anche compresi il metodo di stampaggio, le dimensioni della materia prima, l'effetto di sinterizzazione, oggi per analizzare i principali fattori che influenzano le prestazioni dell'obiettivo ceramico sono quelle. Per Saperne Di Più »

Il materiale di destinazione è il materiale per creare film sottili, utilizzando il materiale di destinazione bombardato da particelle caricate ad alta velocità, attraverso diversi laser (raggio di ioni) e diversa interazione del materiale di destinazione per ottenere un sistema di membrana diverso, per ottenere la funzione di conduzione e blocco . Pertanto, il bersaglio è anche chiamato \"bersaglio di sputtering \". Il suo principio di lavoro è utilizzare gli ioni generati dalla fonte di ioni per raccogliere e accelerare il vuoto Per Saperne Di Più »

Il rivestimento di sputtering del magnetron è un nuovo metodo di rivestimento di fase gas fisico, che è quello di utilizzare il sistema di pistola elettronica per emettere elettroni e concentrarsi sul materiale rivestito, in modo che gli atomi di sputtering seguano il principio di conversione dello slancio per volare lontano dal materiale con un kinetic alto energia al film di deposizione del substrato. Questo materiale placcato è chiamato obiettivo sputtering. Per Saperne Di Più »

Metal bersaglio nichel, ni, titanio, ti, zinco, zn, cromo, cr, magnesio, mg, niobio, nb, stagno, sn, alluminio, al, indio, in, ferro, fe, zirconio, zall, titanio-alluminio, Tial, zirconio, zr, alluminio-silicone, alsi, silicone, si, rame, cu, tartantum, t, a, ge, bersaglio in argento, bersaglio AG, bersaglio di cobalto, bersaglio di cobalto, bersaglio in oro, bersaglio dell'oro, bersaglio Au, obiettivo gadolinio Per Saperne Di Più »

La polvere di ossido di stagno di indio è un composto di ossido di indio e ossido di stagno, non è solo una miscela di due ossidi. È prodotto per coprecipitazione chimica e ha una grande conduttività trasparente e una riflessione infrarossa. L'ossido di stagno di indio ha due tipi di aspetto di colore, l'ossido di stagno di indio giallo e Per Saperne Di Più »

Un sistema di celle a combustibile ad acqua di mare al magnesio sviluppato dall'Istituto di Fisica Chimica di Dalian, Accademia Cinese delle Scienze (di seguito denominato \"Dalian Compounds Institute \") ha completato con successo un test in mare in una profondità d'acqua di 3.000 metri, realizzando il primo applicazione pratica di Per Saperne Di Più »