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Bersaglio con ossido di sodio e ossinitruro

Questi articoli sono tutti Bersaglio con ossido di sodio e ossinitruro molto rilevanti. Credo che queste informazioni possano aiutarti a capire le informazioni professionali di Bersaglio con ossido di sodio e ossinitruro. Se vuoi saperne di più, puoi contattarci in qualsiasi momento, possiamo fornirti una guida più professionale.
  • 03-07
    2022
    [notizia] Target di sputtering Perché legare il bersaglio posteriore
    Gli obiettivi di sputtering sono utilizzati principalmente nel settore delle informazioni elettroniche, come circuiti integrati, archiviazione delle informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc. Può anche essere utilizzato in rivestimento in vetro, materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura Prodotti decorativi di alta qualità e altre industrie. L'incollaggio si riferisce al legame un bersaglio a un obiettivo posteriore con saldatura. Per Saperne Di Più »
  • 03-04
    2022
    [notizia] Target in ceramica: tre fattori principali che influenzano le proprietà di esso
    La purezza dell'obiettivo ceramico ha una grande influenza sulle prestazioni del film di sputtering. Più alto è la purezza, migliore è l'uniformità del film di sputtering e la qualità dei prodotti batch. Inoltre, al fine di preparare l'obiettivo ceramico ad alte prestazioni, dovremmo controllare questi fattori, anche compresi il metodo di stampaggio, le dimensioni della materia prima, l'effetto di sinterizzazione, oggi per analizzare i principali fattori che influenzano le prestazioni dell'obiettivo ceramico sono quelle. Per Saperne Di Più »
  • 02-18
    2022
    [notizia] Obiettivi di sputtering ad alta purezza per chip di semiconduttore
    L'obiettivo di sputtering è il fattore più importante per determinare la resa del semiconduttore. Così applicato al semiconduttore e il grado di precisione richiesto, è la massima purezza, il grado di purezza dei materiali di target di sputtering e la precisione influenzerà direttamente le prestazioni del semiconduttore, la differenza di i materiali di destinazione sputtering è le conseguenze più dirette causate da un cortocircuito a semiconduttore Per Saperne Di Più »
  • 02-03
    2022
    [notizia] Qual è il bersaglio sputtering?
    Il rivestimento di sputtering del magnetron è un nuovo metodo di rivestimento di fase gas fisico, che è quello di utilizzare il sistema di pistola elettronica per emettere elettroni e concentrarsi sul materiale rivestito, in modo che gli atomi di sputtering seguano il principio di conversione dello slancio per volare lontano dal materiale con un kinetic alto energia al film di deposizione del substrato. Questo materiale placcato è chiamato obiettivo sputtering. Per Saperne Di Più »
  • 09-09
    2020
    [notizia] È stato sviluppato con successo uno strumento portatile di misura del surriscaldamento istantaneo per l'alluminio elettrolitico
    Recentemente, un tipo di manufatto a risparmio energetico in alluminio elettrolitico chiamato strumento di misura in tempo reale del surriscaldamento del pre-serbatoio portatile è stato sviluppato con successo.Lo strumento di misura è sviluppato da Beijing Core Power Technology Co., Ltd. sulla base del misuratore di temperatura del cristallo originale Per Saperne Di Più »
  • 07-30
    2020
    [notizia] Sono disponibili batterie al sodio efficienti ed economiche
    Secondo un rapporto di THE WEBSITE of Russia Today il 15 luglio, scienziati in Russia e Germania hanno sviluppato un nuovo processo per la produzione di batterie al sodio.La batteria al sodio può sostituire l'uso corrente delle batterie al litio, ha molti vantaggi: una significativa riduzione del costo di produzione, lit Per Saperne Di Più »

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