Gli obiettivi di sputtering sono utilizzati principalmente nel settore delle informazioni elettroniche, come circuiti integrati, archiviazione delle informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc. Può anche essere utilizzato in rivestimento in vetro, materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura Prodotti decorativi di alta qualità e altre industrie. L'incollaggio si riferisce al legame un bersaglio a un obiettivo posteriore con saldatura. Per Saperne Di Più »

La purezza dell'obiettivo ceramico ha una grande influenza sulle prestazioni del film di sputtering. Più alto è la purezza, migliore è l'uniformità del film di sputtering e la qualità dei prodotti batch. Inoltre, al fine di preparare l'obiettivo ceramico ad alte prestazioni, dovremmo controllare questi fattori, anche compresi il metodo di stampaggio, le dimensioni della materia prima, l'effetto di sinterizzazione, oggi per analizzare i principali fattori che influenzano le prestazioni dell'obiettivo ceramico sono quelle. Per Saperne Di Più »

Il materiale di destinazione è il materiale per creare film sottili, utilizzando il materiale di destinazione bombardato da particelle caricate ad alta velocità, attraverso diversi laser (raggio di ioni) e diversa interazione del materiale di destinazione per ottenere un sistema di membrana diverso, per ottenere la funzione di conduzione e blocco . Pertanto, il bersaglio è anche chiamato \"bersaglio di sputtering \". Il suo principio di lavoro è utilizzare gli ioni generati dalla fonte di ioni per raccogliere e accelerare il vuoto Per Saperne Di Più »

L'obiettivo di sputtering è il fattore più importante per determinare la resa del semiconduttore. Così applicato al semiconduttore e il grado di precisione richiesto, è la massima purezza, il grado di purezza dei materiali di target di sputtering e la precisione influenzerà direttamente le prestazioni del semiconduttore, la differenza di i materiali di destinazione sputtering è le conseguenze più dirette causate da un cortocircuito a semiconduttore Per Saperne Di Più »

Il rivestimento di sputtering del magnetron è un nuovo metodo di rivestimento di fase gas fisico, che è quello di utilizzare il sistema di pistola elettronica per emettere elettroni e concentrarsi sul materiale rivestito, in modo che gli atomi di sputtering seguano il principio di conversione dello slancio per volare lontano dal materiale con un kinetic alto energia al film di deposizione del substrato. Questo materiale placcato è chiamato obiettivo sputtering. Per Saperne Di Più »

Metal bersaglio nichel, ni, titanio, ti, zinco, zn, cromo, cr, magnesio, mg, niobio, nb, stagno, sn, alluminio, al, indio, in, ferro, fe, zirconio, zall, titanio-alluminio, Tial, zirconio, zr, alluminio-silicone, alsi, silicone, si, rame, cu, tartantum, t, a, ge, bersaglio in argento, bersaglio AG, bersaglio di cobalto, bersaglio di cobalto, bersaglio in oro, bersaglio dell'oro, bersaglio Au, obiettivo gadolinio Per Saperne Di Più »

Il 27 settembre, il Ministero dell'Ecologia e dell'Ambiente ha tenuto un briefing sulle politiche in materia di cambiamento climatico. Ha introdotto le relative alle politiche sui cambiamenti climatici in Cina e la posizione di base, l'ambiente ecologico, direttore generale del dipartimento del cambiamento climatico li, durante il periodo di \"differe Per Saperne Di Più »

Recentemente, un tipo di manufatto a risparmio energetico in alluminio elettrolitico chiamato strumento di misura in tempo reale del surriscaldamento del pre-serbatoio portatile è stato sviluppato con successo.Lo strumento di misura è sviluppato da Beijing Core Power Technology Co., Ltd. sulla base del misuratore di temperatura del cristallo originale Per Saperne Di Più »

Recentemente, il rame serbo zijin ha tenuto la cerimonia \"KuangGongJie \", il ministro delle miniere e dell'energia della Serbia ha partecipato alla cerimonia e ha consegnato a quattro dipendenti il ​​premio \"ingegnere Š isteck \". Il ministro Antic ha sottolineato che nella prima metà del 2020, nella situazione di prevenzione epidemica e co Per Saperne Di Più »

Un mese dopo il successo del lancio di un razzo vettore Long March 3B che trasportava il Beidou-3, un razzo Long March 5 è decollato alle 00:41 del 23 luglio, sollevando la sonda Mars Probe Tianwen-1 sviluppata internamente dalla Cina. preludio della sinfonia del potere spaziale cinese nello spazio e Per Saperne Di Più »