Gli obiettivi di sputtering sono utilizzati principalmente nel settore delle informazioni elettroniche, come circuiti integrati, archiviazione delle informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc. Può anche essere utilizzato in rivestimento in vetro, materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura Prodotti decorativi di alta qualità e altre industrie. L'incollaggio si riferisce al legame un bersaglio a un obiettivo posteriore con saldatura. Per Saperne Di Più »

La purezza dell'obiettivo ceramico ha una grande influenza sulle prestazioni del film di sputtering. Più alto è la purezza, migliore è l'uniformità del film di sputtering e la qualità dei prodotti batch. Inoltre, al fine di preparare l'obiettivo ceramico ad alte prestazioni, dovremmo controllare questi fattori, anche compresi il metodo di stampaggio, le dimensioni della materia prima, l'effetto di sinterizzazione, oggi per analizzare i principali fattori che influenzano le prestazioni dell'obiettivo ceramico sono quelle. Per Saperne Di Più »

Il materiale di destinazione è il materiale per creare film sottili, utilizzando il materiale di destinazione bombardato da particelle caricate ad alta velocità, attraverso diversi laser (raggio di ioni) e diversa interazione del materiale di destinazione per ottenere un sistema di membrana diverso, per ottenere la funzione di conduzione e blocco . Pertanto, il bersaglio è anche chiamato \"bersaglio di sputtering \". Il suo principio di lavoro è utilizzare gli ioni generati dalla fonte di ioni per raccogliere e accelerare il vuoto Per Saperne Di Più »

Il rivestimento di sputtering del magnetron è un nuovo metodo di rivestimento di fase gas fisico, che è quello di utilizzare il sistema di pistola elettronica per emettere elettroni e concentrarsi sul materiale rivestito, in modo che gli atomi di sputtering seguano il principio di conversione dello slancio per volare lontano dal materiale con un kinetic alto energia al film di deposizione del substrato. Questo materiale placcato è chiamato obiettivo sputtering. Per Saperne Di Più »

Metal bersaglio nichel, ni, titanio, ti, zinco, zn, cromo, cr, magnesio, mg, niobio, nb, stagno, sn, alluminio, al, indio, in, ferro, fe, zirconio, zall, titanio-alluminio, Tial, zirconio, zr, alluminio-silicone, alsi, silicone, si, rame, cu, tartantum, t, a, ge, bersaglio in argento, bersaglio AG, bersaglio di cobalto, bersaglio di cobalto, bersaglio in oro, bersaglio dell'oro, bersaglio Au, obiettivo gadolinio Per Saperne Di Più »

Allo stato attuale, i materiali target sono preparati principalmente fusione e metallurgia della polvere. 1. Metodo di fusione: la materia prima lega con un determinato rapporto composizione è fuso, quindi la soluzione lega è versata nello stampo per formare lingotto, e infine il bersaglio viene effettuato mediante elaborazione meccanica, e il metodo di casting è fuso e lanciato vuoto. Per Saperne Di Più »

La Cina è la prima del mondo nel mondo nella scala dello sviluppo e dell'utilizzo delle energie rinnovabili. La Cina è la classifica in primo luogo nello sviluppo e nell'utilizzo energetico rinnovabile nel mondo, fornendo un forte sostegno alla trasformazione energetica verde e a basso tenore di carbonio, Zhang Jianhua, direttore dell'Amministratore Nazionale dell'Energia Per Saperne Di Più »