Obiettivi di sputtering in lega metallica
- Palladium yttrium lega (Pody) Target -Sputtering
- Argento Indium Telluride (Aginte2) -Suttering Target
- Nichel Niobio Tantalio lega (NiNbTa (60/30/10 al%)) - Obiettivo di polverizzazione
- Moliydenum Germanio Lega (Moge (78:22 AT%)) - Obiettivo di sputtering
- Target di rame (SNAGCU) di rame (SNAGCU)
- Target in lega di zirconio manganese (znmn)
- Ferro di rame (Cufe (99: 1%%)) - Obiettivo di sputtering
- Nichel molibdeno (NiMo (85:15 al%)) - Obiettivo di polverizzazione
- Tanungsteno Tantantum (Taw (90:10 Wt%)) - Obiettivo di sputtering
- MOLYBDENUM NIOBIUM (MONB) Target -Sputtering