Obiettivi di sputtering ceramica.
- Ossido di molibdeno (MoO3)-bersaglio sputtering
- Bersaglio di solfuro di ferro (Fe2S3)-Sputtering
- Seleniuro di tungsteno (WSex)-bersaglio sputtering
- Zinco-antimonio (Zn3Sb2)-bersaglio sputtering
- Ossido di magnesio (MgO)-bersaglio sputtering
- Obiettivo di Boron Carbide (B4C) -Sputter
- Obiettivo di Boron Nitride (BN) -Sputtering
- Target in carburo di tungsteno (WC) Target
- Tantalum carburo (TAC) -Sputtering Target
- Target in carburo di molibdeno (MO2C) -Sputter