Obiettivi di sputtering ceramica.
- Ossido di boro (B2O3)-bersaglio sputtering
- Bersaglio sputtering di solfuro di molibdeno (MoS2)
- Solfuro di rame antimonio (CuSbS (Cu3SbS4.08))-bersaglio sputtering
- Indio Antimonio Tellurio (InSbTe （3,8/75/17,7 at%))-bersaglio sputtering
- Zinco solfuro - Cromo (ZnS-Cr)-bersaglio sputtering
- Tellururo di selenio (SeTe (90/10 wt%))-bersaglio sputtering
- Solfuro di rame germanio (Cu2GeS3)-bersaglio sputtering
- Solfuro di rame cadmio antimonio (Cu4.2Cd0.03SbS4)-bersaglio sputtering
- Solfuro di molibdeno-ossido di antimonio (MoS2-Sb2O3 (60:40 wt%))-Sputtering Target
- Ossido di zinco (drogato con Ga) (ZnO-3wt% Ga2O3)-bersaglio sputtering