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12033-62-4.
Abbronzatura
730700pd.
99,0% -99,9%
- 325 mesh (23.38 mic mic) .etc
234-788-4.
Caratteristica
Nitruro di tantalio (TaN) è un composto chimico, un nitruro di tantalio. Esistono molteplici fasi di composti, stoichimetrically da Ta2N Ta3N5Compreso abbronzatura.
Formula chimica: Terra di Siena
massa molare: 194,955 g / mol
Aspetto: cristalli neri
Densità: 14,3 g / cm3
Punto di fusione: 3.090 ° C (5.590 ° F; 3.360 K)
Solubilità in acqua: insolubile
Cristallo struttura: esagonale, HP6
Applicazione
A volte è usato nella fabbricazione dei circuiti integrati per creare una barriera di diffusione o \"colla \" strati tra rame o altri metalli conduttivi. (. A c 20 nm) in caso di trattamento Beol, rame viene dapprima rivestito con tantalio, poi con il tan utilizzando deposizione fisica da fase vapore (PVD); questa rame rivestito barriera viene quindi rivestito con più rame mediante PVD, e tamponata con rame elettrolitico rivestito, prima della lavorazione meccanica.
Esso è inoltre applicabile resistori a film sottile. Essa ha il vantaggio rispetto nichelcromo resistenze di formare un film di ossido di passivazione che è resistente all'umidità.
Caratteristica
Nitruro di tantalio (TaN) è un composto chimico, un nitruro di tantalio. Esistono molteplici fasi di composti, stoichimetrically da Ta2N Ta3N5Compreso abbronzatura.
Formula chimica: Terra di Siena
massa molare: 194,955 g / mol
Aspetto: cristalli neri
Densità: 14,3 g / cm3
Punto di fusione: 3.090 ° C (5.590 ° F; 3.360 K)
Solubilità in acqua: insolubile
Cristallo struttura: esagonale, HP6
Applicazione
A volte è usato nella fabbricazione dei circuiti integrati per creare una barriera di diffusione o \"colla \" strati tra rame o altri metalli conduttivi. (. A c 20 nm) in caso di trattamento Beol, rame viene dapprima rivestito con tantalio, poi con il tan utilizzando deposizione fisica da fase vapore (PVD); questa rame rivestito barriera viene quindi rivestito con più rame mediante PVD, e tamponata con rame elettrolitico rivestito, prima della lavorazione meccanica.
Esso è inoltre applicabile resistori a film sottile. Essa ha il vantaggio rispetto nichelcromo resistenze di formare un film di ossido di passivazione che è resistente all'umidità.
