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12033-62-4.
Abbronzatura
730700cb.
99,5%
5 mm w. x 5 mm h. x 5 mm d. X
234-788-4.
Caratteristica
Il nitruro di tantalio (TaN) è un composto chimico, un nitruro di tantalio. Ci sono più fasi di composti, stoichimetricamente da Ta2N a Ta3N5compreso TaN.
Formula chimica ： TaN
Massa molare ： 194,955 g / mol
Aspetto ： cristalli neri
Densità ： 14,3 g / cm3
Punto di fusione ： 3.090 ° C (5.590 ° F; 3.360 K)
Solubilità in acqua ： insolubile
Struttura cristallina ： Esagonale, hP6
Applicazione
A volte viene utilizzato nella produzione di circuiti integrati per creare una barriera alla diffusione o strati di \"colla \" tra il rame o altri metalli conduttivi. Nel caso della lavorazione BEOL (a circa 20 nm), il rame viene prima rivestito con tantalio, quindi con TaN utilizzando la deposizione fisica in fase di vapore (PVD); questo rame rivestito di barriera viene quindi rivestito con più rame mediante PVD e riempito con rame rivestito elettroliticamente, prima di essere lavorato meccanicamente.
Trova applicazione anche in resistori a film sottile. Ha il vantaggio rispetto ai resistori al nicromo di formare una pellicola di ossido passivante resistente all'umidità.
Caratteristica
Il nitruro di tantalio (TaN) è un composto chimico, un nitruro di tantalio. Ci sono più fasi di composti, stoichimetricamente da Ta2N a Ta3N5compreso TaN.
Formula chimica ： TaN
Massa molare ： 194,955 g / mol
Aspetto ： cristalli neri
Densità ： 14,3 g / cm3
Punto di fusione ： 3.090 ° C (5.590 ° F; 3.360 K)
Solubilità in acqua ： insolubile
Struttura cristallina ： Esagonale, hP6
Applicazione
A volte viene utilizzato nella produzione di circuiti integrati per creare una barriera alla diffusione o strati di \"colla \" tra il rame o altri metalli conduttivi. Nel caso della lavorazione BEOL (a circa 20 nm), il rame viene prima rivestito con tantalio, quindi con TaN utilizzando la deposizione fisica in fase di vapore (PVD); questo rame rivestito di barriera viene quindi rivestito con più rame mediante PVD e riempito con rame rivestito elettroliticamente, prima di essere lavorato meccanicamente.
Trova applicazione anche in resistori a film sottile. Ha il vantaggio rispetto ai resistori al nicromo di formare una pellicola di ossido passivante resistente all'umidità.
