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DETTAGLI DEL PRODOTTO

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Gallium Nitride (GAN) -Sputtering Target

  • 25617-97-4.

  • Gan.

  • 310700St.

  • 99,99% -99,9999%

  • 1 pollice Dia x 0,25 pollici th.etc

  • 247-129-0

Stato di disponibilità:

Caratteristica


Gallium Nitride (GAN) è un semiconduttore Binary III / V di Bandgap diretto comunemente utilizzato in diodi emettitori leggeri dagli anni '90. Il composto è un materiale molto duro con una struttura a cristallo wurtzite. La sua ampia banda di 3,4 EV offre informazioni speciali [Chiarificazione necessaria] Proprietà per applicazioni in Optoelectronic, [8] [9] Dispositivi ad alta potenza e ad alta frequenza.


Formula chimica: Gan

Messa molare: 83.730 g / mol

Aspetto: polvere gialla

Densità: 6.1 g / cm3

Punto di fusione:> 1600 ° C

Solubilità in acqua: insolubile

GAP BAND: 3.4 EV (300 K, Direct)

Mobilità elettronica: 1500 cm2/ (V · s) (300 K)

Conduttività termica: 1,3 W / (cm · k) (300 K)

Indice di rifrazione (ND): 2.429

Struttura in cristallo: Wurtzite



Applicazione

La sua sensibilità alla radiazione ionizzazione è bassa (come altri nitridi III del gruppo), rendendolo un materiale adatto per gli array di celle solari per i satelliti. Le applicazioni militari e spaziali potrebbero anche beneficiare di dispositivi hanno mostrato stabilità negli ambienti di radiazione.


Poiché i transistor Gan possono operare a temperature molto più elevate e lavorare a tensioni molto più elevate rispetto ai transistor di Gallium Arsenide (GAAS), rendono gli amplificatori di potenza ideali presso le frequenze a microonde. Inoltre, Gan offre caratteristiche promettenti per i dispositivi THZ.


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