Obiettivi di sputtering in lega metallica
- Lega di ferro gallio (FeGa (82/18 at%))-bersaglio sputtering
- Lega di nichel-cromo-ferro (NiCrFe (72:14:14 wt%))-bersaglio di polverizzazione
- Target in lega di scandium in alluminio (ALSC)
- Obiettivo dell'alluminio dell'alluminio del vanadio (VAL)
- Nickel Chromium Ley (NICR (80:20 Wt%)) - Obiettivo di sputtering
- Lega di rame gallio (Cuga (80:20 Wt%)) - Obiettivo di sputtering
- Target in lega di molibdeno a tantalum (Mota) Target
- Nickel Tungsten Ley (NIW (95 / 5at%)) - Obiettivo di sputtering
- Lega di alluminio in silicone (SIAL (90:10 Wt%)) - Obiettivo di sputtering
- Alluminio itterbio Lega (AlYb) -Sputtering target