Obiettivi di sputtering ceramica.
- Nickel Boride (NIB) Target -Sputtering
- Boruro di silicio in ferro cobalto (CoFesib (8: 70: 12: 10 AT%)) - Obiettivo di sputtering
- Fluoruro di calcio (CaF2) -Sputtering target
- MAGNESIUM FLUORODE (DFM) (MGF2): target
- Boron di ferro cobalto (cofeb (40:40:20 at%)) - Obiettivo di sputtering
- GOBALT SILICON BORON (COSIB) TARGET DISPUTTERING
- Ferro Silicon Boron (FESIB) Target -Putttering
- Target di Chromium Diboride (CRB2) -Sputtering
- Obiettivo di Valladium Boride (VB2) -Sputtering
- Boride in titanio (Tib2) -Sputtering Target