Obiettivi di sputtering ceramica.
- Siliciuro di ferro (FeSi2)-bersaglio sputtering
- Siliciuro di cromo (CrSi2)-bersaglio sputtering
- Siliciuro di titanio (I) (TiSi)-bersaglio sputtering
- Pentossido di tantalio (Ta2O5)-bersaglio sputtering
- Ossido di tellurio (TeO2)-bersaglio sputtering
- Ossido di antimonio (Sb2O3)-bersaglio sputtering
- Ossido di indio zinco stagno (In2O3:ZnO:SnO2 （90:7:3 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di zinco indio (In2O3:ZnO （90:10 Wt%）)-bersaglio sputtering
- Ossido di stagno di gallio (GTO) (Ga2O3-SnO2)-bersaglio sputtering
- Ossido di Zinco (dopato con P) (ZnO (dopato con P2O5) )-Sputtering Target