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12039-88-2
WSi2
741400PD
99,5%
- 625 maglie, - 200 maglie
234-909-0
Caratteristica
Siliciuro di tungsteno (WSi2) è un composto inorganico, un siliciuro di tungsteno.È un materiale ceramico elettricamente conduttivo.
Formula chimica: WSi2
Massa molare: 240,011 g/mol
Aspetto: cristalli tetragonali grigio-blu
Densità: 9,3 g/cm3
Punto di fusione: 2160 ° C (3.920 ° F; 2.430 K)
Solubilità in acqua: insolubile
Applicazione
Viene utilizzato in microelettronica come materiale di contatto, con resistività 60–80 μΩ cm;si forma a 1000 °C.Viene spesso utilizzato come shunt su linee in polisilicio per aumentarne la conduttività e aumentare la velocità del segnale.Gli strati di siliciuro di tungsteno possono essere preparati mediante deposizione chimica da vapore, ad esempio utilizzando monosilano o diclorosilano con esafluoruro di tungsteno come gas di partenza.Il film depositato non è stechiometrico e richiede la ricottura per convertirsi in una forma stechiometrica più conduttiva.Il siliciuro di tungsteno sostituisce i precedenti film di tungsteno.Il siliciuro di tungsteno viene utilizzato anche come strato barriera tra il silicio e altri metalli, ad esempio il tungsteno.
Il siliciuro di tungsteno è anche utile per l'uso nei sistemi microelettromeccanici, dove viene principalmente applicato come film sottili per la fabbricazione di circuiti a microscala.A tale scopo, film di siliciuro di tungsteno possono essere incisi al plasma utilizzando, ad esempio, gas trifluoruro di azoto.
WSi2si comporta bene in applicazioni come rivestimenti resistenti all'ossidazione.In particolare, in analogia al disiliciuro di molibdeno, MoSi2, l'elevata emissività del disiliciuro di tungsteno rende questo materiale attraente per il raffreddamento radiativo ad alta temperatura, con implicazioni negli scudi termici.
Caratteristica
Siliciuro di tungsteno (WSi2) è un composto inorganico, un siliciuro di tungsteno.È un materiale ceramico elettricamente conduttivo.
Formula chimica: WSi2
Massa molare: 240,011 g/mol
Aspetto: cristalli tetragonali grigio-blu
Densità: 9,3 g/cm3
Punto di fusione: 2160 ° C (3.920 ° F; 2.430 K)
Solubilità in acqua: insolubile
Applicazione
Viene utilizzato in microelettronica come materiale di contatto, con resistività 60–80 μΩ cm;si forma a 1000 °C.Viene spesso utilizzato come shunt su linee in polisilicio per aumentarne la conduttività e aumentare la velocità del segnale.Gli strati di siliciuro di tungsteno possono essere preparati mediante deposizione chimica da vapore, ad esempio utilizzando monosilano o diclorosilano con esafluoruro di tungsteno come gas di partenza.Il film depositato non è stechiometrico e richiede la ricottura per convertirsi in una forma stechiometrica più conduttiva.Il siliciuro di tungsteno sostituisce i precedenti film di tungsteno.Il siliciuro di tungsteno viene utilizzato anche come strato barriera tra il silicio e altri metalli, ad esempio il tungsteno.
Il siliciuro di tungsteno è anche utile per l'uso nei sistemi microelettromeccanici, dove viene principalmente applicato come film sottili per la fabbricazione di circuiti a microscala.A tale scopo, film di siliciuro di tungsteno possono essere incisi al plasma utilizzando, ad esempio, gas trifluoruro di azoto.
WSi2si comporta bene in applicazioni come rivestimenti resistenti all'ossidazione.In particolare, in analogia al disiliciuro di molibdeno, MoSi2, l'elevata emissività del disiliciuro di tungsteno rende questo materiale attraente per il raffreddamento radiativo ad alta temperatura, con implicazioni negli scudi termici.
