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DETTAGLI DEL PRODOTTO

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Fosfuro di gallio (GaP)-bersaglio sputtering

  • 12063-98-8

  • Spacco

  • 311500ST

  • 99,999%

  • 2 pollici di diametro x 0,25 pollici di sp.

  • 235-057-2

Stato di disponibilità:

Caratteristica


Il fosfuro di gallio (GaP), un fosfuro di gallio, è un materiale semiconduttore composto con una banda proibita indiretta di 2,24 eV a temperatura ambiente.Il materiale policristallino impuro ha l'aspetto di pezzi arancioni chiari o grigiastri.I singoli cristalli non drogati sono arancioni, ma i wafer fortemente drogati appaiono più scuri a causa dell'assorbimento del vettore libero.È inodore e insolubile in acqua.


Formula chimica:GaP

Massa molare:100,697 g/mol

Aspetto: solido arancione chiaro

Odore:inodore

Densità:4.138 g/cm3

Punto di fusione: 1.457 ° C (2.655 ° F; 1.730 K)

Solubilità in acqua:insolubile

Intervallo di banda: 2,24 eV (indiretto, 300 K)

Mobilità elettronica:300 cm2/(V·s) (300 K)

Suscettività magnetica (χ):-13.8×10−6cgs

Conducibilità termica: 0,752 W/(cm·K) (300 K)

Indice di rifrazione (nD): 2,964 (10 µm), 3,209 (775 nm), 3,590 (500 nm), 5,05 (354 nm)

Struttura cristallina: miscela di zinco


Applicazione


Lo zolfo o il tellurio sono usati come droganti per produrre semiconduttori di tipo n.Lo zinco è usato come drogante per il semiconduttore di tipo p.


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