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Italiano  |
7440-21-3
si
1400SRT
≥99,9%
su misura
231-130-8
Caratteristica
Il silicio è un tipo importante di materiali target per sputtering, utilizzato principalmente nel sistema di reazione della placcatura a polverizzazione di magnetron SiO2 e strato dielettrico SiN, come importanti materiali funzionali a film sottile, hanno una buona durezza, proprietà ottiche e dielettriche e resistenza all'usura, resistenza alla corrosione e altre caratteristiche, nell'ottica, nella microelettronica e in altri campi ha un'ampia prospettiva di applicazione e i materiali funzionali sono ampiamente oggetto di attenzione internazionale.
Generalmente, i target di silicio possono essere suddivisi in tipi a cristallo singolo e policristallino.
Applicazione
Utilizzato per la produzione di film SiO2/Si3N4, utilizzato principalmente per vetro ottico, sistema di pellicole AR di touch screen, vetro rivestito Low-E, elettronica a semiconduttore, display piatto, touch screen.
Caratteristica
Il silicio è un tipo importante di materiali target per sputtering, utilizzato principalmente nel sistema di reazione della placcatura a polverizzazione di magnetron SiO2 e strato dielettrico SiN, come importanti materiali funzionali a film sottile, hanno una buona durezza, proprietà ottiche e dielettriche e resistenza all'usura, resistenza alla corrosione e altre caratteristiche, nell'ottica, nella microelettronica e in altri campi ha un'ampia prospettiva di applicazione e i materiali funzionali sono ampiamente oggetto di attenzione internazionale.
Generalmente, i target di silicio possono essere suddivisi in tipi a cristallo singolo e policristallino.
Applicazione
Utilizzato per la produzione di film SiO2/Si3N4, utilizzato principalmente per vetro ottico, sistema di pellicole AR di touch screen, vetro rivestito Low-E, elettronica a semiconduttore, display piatto, touch screen.
